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半导体行业

在半导体等电子工业中,作为您称职的合作伙伴,上海元佳根据您对纯度的需求,通过多种供应模式,为清洗、成膜、刻蚀等生产工艺提供所需求的载气(H2, N2, O2, Ar, He...)以及电子特种气体(HCl, SiH4, N2O, BCl3...)

容器规格:47L、66L、Y-Cylinder(440L)、Tonner(944L)、Drum(1000L)、ISO(12MT/20MT)
阀门规格:DISS系列、CGA系列、Din系列
纯度:min. 99.999%
应用:

HCl 氯化氢
外延工艺用、清洁硅片表面减少缺陷,减少前工艺所引入的损伤。
TCS 三氯氢硅
外延工艺中作为硅源用于外延生长
   
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